晶硅片切割废砂浆中碳化硅的旋流工艺研究
来源：本站 更新日期：2020-11-25 13:12:48 浏览：227
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半导体生产制造前，必须将硅转换为晶圆片（未切割的单晶硅材料是一种薄型圆片叫晶圆片,是半导体行业的原材料，切割后叫硅片，通过对硅片进行光刻、离子注入等手段，可以制成各种半导体器件），切割多采用线切割原理，在切割过程中会产生大量的废砂浆。废砂浆的主要成分为大量的聚乙二醇、碳化硅、硅粉以及少量的铁屑。其中切割液和碳化硅具有很高的回收利用价值 。
晶圆生产包括：晶棒成长、晶棒裁切与检测、外径研磨、切片、圆边、表层研磨、蚀刻、去疵、抛光、清洗及检验包装工序；研磨过程之后需采用大量的超纯水来洗净晶圆表面所残留的悬浮微颗粒或金属离子污染物，因而产生CMP研磨废液及后段清洗废水。
在此产生过程中的问题有：1、废水处理不当或直接排放会污染环境；2、处理过的水不加以回收造成水资源浪费严重；3传统的处理方式有局限性（占地大，加药多，污泥产生量多，水质不稳定）等问题。
WEYSYS生产的过滤设备应用：
生产中上层清液溢流至中间水箱，经中间水泵将清水加压后进一步过滤，经WEYSYS生产的10微米不锈钢袋式过滤器、1微米的精密滤芯过滤器、活性炭吸附装置及终端0.2微米的精密过滤器过滤之后进入终端水箱，经终端送水泵将系统完全处理的回用水送至超滤产水箱，可直接进反渗透装置以继续生产超纯水。
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